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镀铬工艺

铬是一种微带蓝色的银白色金属,相对原子质量51.99,密度6.98~7.21g/cm3,熔点为1875~1920℃,标准电极电位为尤什/c,-0.74V,老"/c,"-0.41V和P甚e+/Cr抖-1.33V,金属铬在空气中极易钝化,表面形成一层极薄的钝化膜,从而显示出贵金属的性质。

镀铬层具有很高的硬度,根据镀液成分和工艺条件不同,其硬度可在很大范围400~1200HV内变化。镀铬层有较好的耐热性,在500℃以下加热,其光泽性、硬度均无明显变化,温度大于500℃开始氧化变色,大于700℃硬度开始降低。镀铬层的摩擦系数小,特别是干摩擦系数,在所有的金属中是最低的。所以镀铬层具有很好的耐磨性。

铬镀层具有良好的化学稳定性,在碱、硫化物、硝酸和大多数有机酸中均不发生作用,但能溶于氢氯酸(如盐酸)和热的硫酸中。

在可见光范围内,铬的反射能力约为65%,介于银(88%)和镍(55%)之间,且因铬不变色,使用时能长久保持其反射能力而优于银和镍。

基本信息

  • 中文名称

    镀铬

  • 外文名称

    Chrome plated

 
  • 硬 度

    400~1200HV

  • 特 点

    较好的耐热性

概述

铬是一种微带蓝色的银白色金属,相对原子质量51.99,密度6.98~7.21g/cm3,熔点为1875~1920℃,标准电极电位为尤什/c,-0.74V,老”/c,”-0.41V和P甚e+/Cr抖-1.33V,金属铬在空气中极易钝化,表面形成一层极薄的钝化膜,从而显示出贵金属的性质。

工艺过程

①镀铬电解液的主要成分不是金属铬盐,而是具有强氧化性的铬酸。
②电流效率很低,一般为13~16%,最高只能达到23%左右,因而在镀铬过程中氢气大量析出,带出有毒液雾,需要有良好的吸风装置和采用铬雾抑制剂。
③溶液中必须添加少量外加的阴离子,如SO42-、F-、SiF62-等,还要在电解液中维持一定量的三价铬。
④分散能力低,对于形状比较复杂的零件,必须采用象形阳极、保护阴极等,才能得到良好的镀层。
⑤采用的电流密度很高,有时比一般镀种的电流密度高几十倍。镀铬过程的槽电压也较高,常常需要采用12伏以上的电源,而其它镀种用6伏的电源也就可以了。
⑥温度和电流密度的控制要求严格,两者之间还要紧密配合。电流密度固定,温度只能变动1~2℃,温度固定,电流密度变动2~3A/d㎡。
⑦镀铬所用阳极不是金属铬,而是采用铅、铅锡合金或铅锑合金等不溶性阳极。
⑧因铬层容易钝化,在一般情况下电镀过程中不允许中途断电。。这

特点

从常用的铬酸镀液镀铬,与其他单金属镀液相比,镀铬液虽成分简单,但镀铬过程却相当复杂,并具有如下特点。
①镀铬液的主要成分不是金属铬盐,而是铬的含氧酸——铬酸,属于强酸性镀液。电镀过程中,阴极过程复杂,阴极电流大部分消耗在析氢及六价铬还原为三价铬两个副反应上,故镀铬的阴极电流效率很低(10%~l8%)。而且有三个异常现象:电流效率随铬酐浓度的升高而下降l随温度的升高而下降;随电流密度的增加而升高。
②在镀铬液中,必须添加一定量的阴离子,如SO42-、SiF62一、F一等,才能实现金属铬的正常沉积。
③镀铬液的分散能力很低,对于形状复杂的零件,需采用象形阳极或辅助阴极,以得到均匀的镀铬层。对挂具的要求也比较严格。
④镀铬需采用较高的阴极电流密度,通常在20A/dm2以上,比一般的镀种高l0倍以上。由于阴极和阳极大量析出气体,使镀液的电阻较大,槽压升高,对电镀电源要求高,需采用大于l2V的电源,而其他镀种使用8V以下的电源即可。
⑤镀铬的阳极不用金属铬,而采用不溶性阳极。通常使用铅、铅一锑合金及铅一锡合金。镀液内由于沉积或其他原因而消耗的铬需靠添加铬酐来补充。
⑥镀铬的操作温度和阴极电流密度有一定的依赖关系,改变二者关系可获得不同性能的铬镀层。

成分

铬酐的水溶液是铬酸,是铬镀层的惟一来源。实践证明,铬酐的浓度可以在很宽的范围内变动。例如,当温度在45~50℃,阴极电流密度l0A/dm2时,铬酐浓度在50~500g/L范围内变动,甚至高达800g/L时,均可获得光亮镀铬层。但这并不表示铬酐浓度可以随意改变,一般生产中采用的铬酐浓度为l50~400g/L之间。铬酐的浓度对镀液的电导率起决定作用,图4—19所示为铬酐浓度与镀液电导率的关系。可知在每一个温度下都有一个相应于最高电导率的铬酐浓度;镀液温度升高,电导率最大值随铬酐浓度增加向稍高的方向移动。因此,单就电导率而言,宜采用铬酐浓度较高的镀铬液。
但采用高浓度铬酸电解液时,由于随工件带出损失严重,一方面造成材料的无谓消耗,同时还对环境造成一定的污染。而低浓度镀液对杂质金属离子比较敏感,覆盖能力较差。铬
酐浓度过高或过低都将使获得光亮镀层的温度和电流密度的范围变窄。含铬酐浓度低的镀液电流效率高,多用于镀硬铬。较浓的镀液主要用于装饰电镀,镀液的性能虽然与铬酐含量有关,最主要的取决于铬酐和硫酸的比值。

电极过程

工业上广泛使用的镀铬液由铬酐辅以少量的阴离子构成,镀液中Cr6+的存在形式根据铬酐浓度的不同而有差异,一般情况(Cr03200~400g/L)下,主要以铬酸(CrO42-)和重铬酸(Cr2O72-)形式存在。当pH值小于1时,Cr2072-为主要存在形式;当pH值为2~6时,Cr2O72-与CrO42-存在下述平衡,即
Cr2072-+H20====2H2Cr04-+2CrO]一十2H+
当pH值大于6时,CrO42-为主要存在形式。由此可以看出,镀铬电解液中存在的离子有Cr2072-、H+、cro42-和S042-等。实践证明,除SO42-外,其他离子都可以参加阴极反应,采用示踪原子法对铬酸镀铬过程的研究表明,镀铬层是由六价铬还原得到的,而不是三价铬。


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